微就科技 上海微电子光刻机亮相“十二五”科技创新成就展，彰显中国半导体自主创新力量

在“十二五”科技创新成就展上，上海微电子装备有限公司（简称SMEE）自主研发的光刻机产品作为重大科技成果精彩亮相，引发业界广泛关注。作为国内半导体装备领域的领军企业，上海微电子的光刻机成果不仅展示了中国在高端制造领域的突破，更成为“微就科技” innovation 的生动注脚。

光刻机是集成电路制造的核心装备，其技术难度被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。长期以来，高端光刻机市场被少数国际巨头垄断。上海微电子自成立以来，坚持自主创新，在国家科技重大专项支持下，成功突破了高精度光刻机多项关键技术。此次参展的产品覆盖了先进封装、LED制造、MEMS等领域，其中不乏达到国际先进水平的代表机型，体现了我国在光刻机整机集成、核心部件和工艺研发上的系统性进步。

“十二五”期间，上海微电子实现了从低端到中高端光刻机的跨越，先后推出多款适用于不同工艺节点的光刻设备，并进入国内外主流产线验证。此次展出的成果包括面向IC前道封装的光刻机、用于MEMS和功率器件的光刻机等，展现了其产品线的多样性与技术成熟度。这些设备在精度、产能和稳定性方面均有显著提升，部分指标达到国际同类产品水平，有力支撑了我国集成电路产业的自主可控发展。

值得注意的是，上海微电子的成长轨迹正是“微就科技”理念的体现——以微纳制造技术为核心，通过持续精进与协同创新，成就大国重器。公司通过产学研用深度融合，联合国内高校、研究所及上下游企业，攻克了光源、光学系统、双工件台等核心模块，形成了自主知识产权体系。其光刻机产品已在国内多家晶圆厂和封装厂实现应用，助力企业降低对进口设备的依赖，提升产业链安全。

“十二五”科技创新成就展由科技部等部委主办，旨在展示五年来我国科技创新取得的重大标志性成果。上海微电子光刻机的入选，不仅是对其技术实力的认可，更是对国家长期支持半导体装备产业发展的回报。随着“十三五”及后续规划的推进，上海微电子将继续向更高分辨率、更高套刻精度的光刻机发起挑战，为中国在全球半导体产业链中占据更有利位置贡献力量。

从追赶到并跑，上海微电子的每一步都凝聚着中国科技工作者的智慧与汗水。光刻机的亮相，是“微就科技”的胜利，更是中国自主创新战略在高端装备领域结出的硕果。它激励着更多企业投身硬科技研发，共同书写中国半导体产业的新篇章。"